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            極紫外(EUV)光刻膠材料

            極紫外(EUV)光刻膠材料

            交易信息:
            完全轉(zhuǎn)讓-0.00 元
            技術(shù)領(lǐng)域:
            應(yīng)用領(lǐng)域:
            最后更新時間:2022-07-28 15:21
            所在地:
            吉林省 長春市 南關(guān)區(qū)
            所有者:
            飆飆
            聯(lián)系方式:
            13756056562
            具有自主知識產(chǎn)權(quán)的EUV光刻膠的成功研發(fā),填補(bǔ)了我國在超高精細(xì)光刻膠研發(fā)領(lǐng)域的空白,將為擺脫國內(nèi)高檔光刻膠材料完全依賴進(jìn)口的格局,促進(jìn)我國集成電路制造產(chǎn)業(yè)的健康發(fā)展起到積極的促進(jìn)作用。在此工作的基礎(chǔ)上,以獲得的光刻膠主體材料為核心,通過配方和工藝研發(fā),實現(xiàn)了193nm曝光機(jī)光刻,為我國開展193nm和193nm浸沒式光刻膠的研發(fā)打下了基礎(chǔ)。

            具有自主知識產(chǎn)權(quán)的EUV光刻膠的成功研發(fā),填補(bǔ)了我國在超高精細(xì)光刻膠研發(fā)領(lǐng)域的空白,將為擺脫國內(nèi)高檔光刻膠材料完全依賴進(jìn)口的格局,促進(jìn)我國集成電路制造產(chǎn)業(yè)的健康發(fā)展起到積極的促進(jìn)作用。在此工作的基礎(chǔ)上,以獲得的光刻膠主體材料為核心,通過配方和工藝研發(fā),實現(xiàn)了193nm曝光機(jī)光刻,為我國開展193nm和193nm浸沒式光刻膠的研發(fā)打下了基礎(chǔ)。

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